|联系我们  Global
  • Park
    Wafer Series
    AFM Applications
 

Artifact Free Metrology by Crosstalk Elimination

  • 独特的解耦XY轴扫描系统提供平滑的扫描平台
  • 精确的特征特亮和行业领先的仪表统计功能
  • 卓越的工具匹配

CD Measurements

出众的精确且精密纳米测量在提高效率的同时,也为重复性与再现性研究带来最高的分辨率和最低的仪表西格玛值。

  Read More related application
cdm
 

Precision Nanometrology Measurements

Sub-Nano Roughness Measurements of Substrates & Media

凭借行业最低的噪声和创新的True Non-ContactTM模式,XE-Wafer在最平滑的媒介和基体样品上实现最精确的粗糙度测量。

  Read More related application
num2num

Accurate Angle Measurements



Z轴扫描正交性的高精度校正让角度测量时精确度小于0.1度。cam

Trench Measurements

独有的True Non-Contact模式能够线上无损测量小至45 nm的细节。

  Read More related application
tm

Accurate TSV CMP Profiling Measurement

借助低系统噪声和平滑轮廓扫描功能,Park Systems实现了前所未有的硅通孔化学机械研磨(TSV CMP)轮廓测量。

  Read More related application
CMP-Profiling
 
 
 

Park XE-Wafer features

Fully Automated Pattern Recognition
zsta2

借助强大的高分辨率数字CCD镜头和图形识别软件,Park NX-HDM让全自动图形识别和对准成为可能。

Automatic Measurement Control

自动化软件让XE-3DM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化,为您提供多位置分析。zsta3

True Non-Contact Mode & Longer Tip Life
9 3 True-Non-Contact-Mode

得益于专利的高强度Z轴扫描系统,XE系列原子力显微镜让真正非接触模式成为可能。真正非接触模式借助了原子间的相互吸引力,而非相互排斥力。

因此,在真正非接触模式下,探针与样品间的距离可以保持在几纳米,从而盖上原子力显微镜的图像质量,保证探针尖端的锋利度,延长使用寿命。

Flexure Based Decoupled XY & Z Scanner
decoupled

Z轴扫描器与XY轴扫描器完全解耦。XY轴扫描器在水平面移动样品,而Z轴扫描器则在垂直方向移动探针。该设置可实现平滑的XY轴测量,让平面外移动降到最低。此外,XY轴扫描的正交性和线性也极为出色。

Industry’s Lowest Noise Floor
2 Low-Noise-Floor

为了检测最小的样品特征和成像最平的表面,Park推出行业本底噪声最低(< 0.5Å)的显微镜。本底噪声是在"零扫描"情况下确定的。当悬臂与样品表面接触时,在如下情况下测量系统噪声:

• 0 nm x 0 nm扫描范围,停在一个点
• 0.5增益,接触模式
• 256 x 256像素

 

Park Wafer - Applications | Park Atomic Force Microscope