クロストーク除去(XE)によるアーティファクトの無いイメージング！

低い残留湾曲
走査位置に依存しない測定結果
ソフトウエア処理の必要性がないデータ(raw data)
正確な高さ測定値とサンプルのイメージング


スキャナーの湾曲がないフラットXYスキャン

クロストーク除去(XE)はスキャナーの根本的な湾曲を 取り除きますので走査位置、走査速度及び走査範 囲にかかわらず1nm未満の平坦なXY走査を可能に します。図に示すように最も平坦な光学サンプルなど もバックグラウンド湾曲を全く現わしません。従って、 XE-AFMは研究分野と産業界で抱えている高さ測定 精度の限界を解決に導くはずです。



優れたXY方向スキャンの直線性と直交性

フレクシャーXYスキャナーはXとYスキャンの動きをディカップリングし、Xと Y動きのカプリングは走査位置、走査速度及び走査範囲にかかわらず最 小にします。






完全非接触モードAFMによる究極の分解能！

チップ先端の摩耗が少ないため長期間変わらぬ高品質、高分解能イメージ
サンプルへのダメージと変形を最小限化
パラメータに依存するタッピング測定から解放
柔らかいサンプルの表面イメージング


従来のAFMより試料の損傷が少ないし、チップの寿命が長い

柔らかいサンプルでは、チップがサンプルにダメージを与えるのでサンプル 高さの測定値に誤りをもたらします。また、チップの損傷を防ぐことは正確 かつ安定した高分解能なイメージ取得を可能にします。XE-AFMの完全非 接触モードはチップの先端保護につながり、より長いチップの寿命とサンプ ルの損傷を抑えることが出来ます。



完全非接触モードがついに実現

完全非接触モードでは、チップと試料の間の距離が数ナノメータ ーに維持されるので、AFM画像の質が向上し、チップの先端の鋭 さが劣化しません。チップの先端は非常に脆いので、試料に触れ ると、すぐに先の尖りが減り、AFMの解像度を劣化させてしまいま す。 完全非接触は先端鋭さを維持します、従って、ユーザーのイ メージングニーズに生産性と明確性を高めます。 完全非接触モー ドでは、チップとサンプル間の距離が数ナノメートルの引力領域 で原子間力の相互作用でうまく保持されます。 チップオシレーシ ョンの小さい振幅(通常1nm程度)ではチップとサンプルの相互作 用を最小にし、チップとサンプルの損傷を最小限に抑えられます。